刻蚀玻璃的化学方程式，氢氟酸刻蚀玻璃的化学方程式

刻蚀玻璃的化学方程式？刻蚀玻璃的化学方程式如下：氢氟酸能够与玻璃中二氧化硅反应生成四氟化硅和水，方程式：SiO2（玻璃）+ H2 +热 SiH4（硅氢化物）+ H2O 补充：蚀刻玻璃是利用蚀刻剂（氢氟酸）来腐蚀刻制的玻璃，有文字或图案、花纹的蚀刻玻璃作为装饰品，美观大方，是建筑装饰常用的一种玻璃制品。那么，刻蚀玻璃的化学方程式？一起来了解一下吧。

刻蚀玻璃的原理

（1）SiO₂广泛存在自然界中，其用途也非常广泛，可用于制造光导纤维，也用于生产半导体材料硅，碳能与二氧化硅反应生成硅单质，化学反应方程式：SiO₂+2C═Si+2CO↑，二氧化硅能与氢氟酸反应生成四氟化硅气体，用于刻画玻璃，化学反应方程式：SiO₂+4HF=SiF₄↑+2H₂O，（1）光导纤维；SiO₂+2C═Si+2CO↑；SiO₂+4HF

（2）检验溶液中Fe³⁺存在通常用KSCN溶液，取少量溶液与试管中，滴加KSCN溶液，溶液呈血红色，说明Fe³⁺存在；铜与氯化铁反应生成氯化铜、氯化亚铁，反应的离子方程式为：2Fe³⁺+Cu=Cu²⁺+2Fe²⁺

故答案为：KSCN溶液；溶液呈血红色；2Fe³⁺+Cu=Cu²⁺+2Fe²⁺．

氢氟酸刻蚀玻璃的化学方程式

氢氟酸刻蚀玻璃化学方程式是氢氟酸和二氧化硅，玻璃的主要成分就是二氧化硅。

玻璃是用石英砂加纯碱制备的。因为石英的熔点很高，要把石英熔化需要很高的温度，而且粘度很大，因此在石英熔化时，加少量的纯碱，纯碱可以使石英中部分Si-O-Si键，变成Si-O-Na，打断了二氧化硅聚合的长链，从而使熔点降低，钠离子含量越高，断裂的Si-O-Si键越多，玻璃的软化点就更低。但玻璃的主要成分始终是二氧化硅，而不是硅酸盐。

HF刻蚀玻璃

玻璃能被氢氟酸腐蚀，大家通常认知其反应过程是氢氟酸与二氧化硅或硅酸盐反应生成气态物质四氟化硅( SiF4 ) ，有关反应的化学方程式为: (1) SiO2+4HF=SiF4+2H2O(2) CasiO3+6HF=CaF2+SiF4+3H2O

有相关实验研究氢氟酸腐蚀玻璃后，产生蚀刻后溶液的浑浊并出现絮状沉淀和白雾的现象，其中絮状沉淀是SiF4 水解产生的原硅酸( H4SiO4 ) ，而白雾为 HF 溶于水蒸气而产生的酸雾。该实验分析认为氢氟酸与玻璃反应的主要依据是：

无机物水解受影响的主要三个因素：

（1）离子( 原子) 半径大小及所带电荷数的多少；

（2）离子( 原子) 电子层结构；

（3）离子( 原子) 的空轨道；

对于 SiF4 来说， 虽然 Si- F 键能( 565kJ/mol) 比 C- F 键的键能( 485 kJ/ mol) 大， SiF4 在 1273K 时也不分解[ 1]，但 SiF4 却易水解。原因是硅原子半径较大，既有 3s 和 3p 轨道能形成共价键，又有 3d 空轨道可接受水分子中氯原子的孤对电子，形成配位键，从而削弱了硅与氟的作用力，使 Si-F 键发生断裂。所以， SiF4 很容易水解而不能存在于水中。

刻蚀

刻蚀玻璃的化学方程式如下：

氢氟酸能够与玻璃中二氧化硅反应生成四氟化硅和水，方程式：

SiO2（玻璃）+ H2 +热 SiH4（硅氢化物）+ H2O

补充：

蚀刻玻璃是利用蚀刻剂（氢氟酸）来腐蚀刻制的玻璃，有文字或图案、花纹的蚀刻玻璃作为装饰品，美观大方，是建筑装饰常用的一种玻璃制品。

制作方法：

第一步：将待刻的玻璃；洗净晾干平置，于其上涂布用汽油溶化的石蜡液作为保护层，于固化后的石蜡层上雕刻出所需要的文字或图案。雕刻时，必须雕透石蜡层，使玻璃露出 。

第二步：将氢氟酸滴于露出玻璃的文字或图案上。根据所需花纹的深浅，控制腐蚀时间经过一定时间之后，用温水洗去石蜡和氢氟酸，即可制得具有美丽花纹的玻璃。

氢氟酸（Hydrofluoric Acid）是氟化氢气体的水溶液，清澈，无色、发烟的腐蚀性液体，有剧烈刺激性气味。氢氟酸是一种弱酸，具有极强的腐蚀性，能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。如吸入蒸气或接触皮肤会造成难以治愈的灼伤。实验室一般用萤石（主要成分为氟化钙）和浓硫酸来制取，需要密封在塑料瓶中，并保存于阴凉处。

铁与稀硝酸反应的离子方程式

A．稀硫酸和二氧化硅不反应，不能用于在玻璃上进行刻蚀，故A错误；

B．二氧化硅与氨水反应几乎不反应，不能用于在玻璃上进行刻蚀，故B错误；

C．氢氟酸与二氧化硅易反应，反应的化学方程式为：SiO₂+4HF=SiF₄↑+2H₂O，生成四氟化硅气体，能在玻璃上进行刻蚀，故C正确；

D．纯碱与二氧化硅在高温下反应，不能用于在玻璃上进行刻蚀，故D错误；

故选C．

以上就是刻蚀玻璃的化学方程式的全部内容，玻璃能被氢氟酸腐蚀，大家通常认知其反应过程是氢氟酸与二氧化硅或硅酸盐反应生成气态物质四氟化硅( SiF4 ) ，有关反应的化学方程式为: (1) SiO2+4HF=SiF4+2H2O (2) CasiO3+6HF=CaF2+SiF4+3H2O 有相关实验研究氢氟酸腐蚀玻璃后，产生蚀刻后溶液的浑浊并出现絮状沉淀和白雾的现象，内容来源于互联网，信息真伪需自行辨别。如有侵权请联系删除。